SiO₂-Li₂O系 (SiO₂=35-81mol%組成) 融液を液相温度から, Q₁=4×10^-2, Q₂=1.4×10^-1, Q₃=4×10^-1, Q₄=3, Q₅=19, Q₆=4.4×10², Q₇≅10⁵K/sの冷却速度で室温まで冷却し, ガラス化領域を決定した. SiO₂=35-75mol%の組成では, ガラス化領域は冷却速度とともに拡大したが, 臨界冷却速度Q*はSiO₂=75mol%でわずかに極小となった. しかし, Q₂-Q₅の冷却速度においては, SiO₂>70mol%組成ではガラスの分相が現れ, 冷却速度の上昇とともに分相領域は高シリカ側に縮少した. 液相粘度logη_LをlogQ*に対してプロットするとほぼ直線的な関係が得られた. SiO₂-Li₂O系とB₂O₃-Li₂O系のlogQ*-logη_Lダイヤグラムを比較したところ, 同じQ*を持つ組成ではSiO₂-Li₂O系の方が高いη_Lの値を持つことが判明した. 結晶化速度式を用いて両者のガラス形成能の違いを調べた結果, SiO₂-Li₂O系の融解エントロピーがB₂O₃-Li₂O系のそれより小さいことが原因であると推定された. このことは, 液体と結晶の構造変化がSiO₂-Li₂O系の方が, B₂O₃-Li₂O系のそれより小さいことを示唆している.