化学工学会　研究発表講演要旨集
化学工学会第74年会
セッションID: H113
会議情報

主催: 社団法人　化学工学会

材料・界面
メソポーラスシリカナノ粒子の有機修飾による分散安定性の制御
*干川 康人, 下嶋 敦, 野村 篤朗, 大久保 達也
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キーワード: mesoporous, nanoparticle, organosilylation
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© 2009 社団法人　化学工学会
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