日本液晶学会討論会講演予稿集
Online ISSN : 2432-5988
Print ISSN : 1880-3490
ISSN-L : 1880-3490
2004年 日本液晶学会討論会
セッションID: PB23
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アゾベンゼンを有するトリブロック共重合体の二次元ナノ相分離構造
*門田 総平, 永野 修作, 関 隆広
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キーワード: アゾベンゼン, トリブロックコポリマー, ATRP法, LB膜, 相分離構造
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抄録

アゾベンゼンを有する新規トリブロックコポリマーをATRP法によって合成した。そのポリマーの単分子膜表面モルフォロジーを、原子間力顕微鏡によって観測を行った。光照射することで誘起されるナノ相分離構造の変化についても検討を行ったので報告する。

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© 2004 日本液晶学会
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