精密工学会学術講演会講演論文集
2011年度精密工学会秋季大会
セッションID: K44
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ピコ秒パルスファイバーレーザによるサファイアの内部改質法
*高橋 健太岡本 康寛岡田 晃
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抄録

ピコ秒パルスファイバーレーザをサファイア基板内部にエピタキシャル層側より照射することによって,梨地面から基板内部にかけて幅5μm,長さ150μm程度と高アスペクト比の改質層を形成できた.この改質層を起点としてサファイア基板を分割でき,エピタキシャル層の損傷もほとんど確認されなかった.

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© 2011 公益社団法人 精密工学会
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